天津急需多段控温管式炉规格

1700℃管式炉Φ60/80
窗体底端
设备名称 真空管式炉（封闭式）
型 号 TF1700-60 TF1700-60II TF1700-80 TF1700-80II
基本参数 电源电压 AC 220V,50/60Hz AC 220V,50/60Hz AC 220V,50/60Hz
外形尺寸
设备重量 175Kg 175Kg
加热系统 加热功率 4Kw 4Kw 8Kw
加 热 区 300mm 300mm 300+300mm
恒 温 区 120mm（±1.5℃） 120mm（±1.5℃）
加热区数 单温区 单温区 双温区
极限温度 1700℃
使用温度 ≤1600℃
升温速率 ≤20℃/min（上限）
1000℃以内：≤10℃/min，1000℃以上：≤5℃/min（建议）
降温速率 1000℃以上≤10℃/min
测温传感器 B型热电偶 0.5mm国标
加热元件 1800型硅钼棒
炉 膛 1800型氧化铝板
收缩率小，导热系数低，保温效果好，耐用节能
控温仪表 厦门宇电 AI系列仪表，模糊PID控制和自整定调节功能
30段可编程控制，控温精度±1℃
真空系统 极限真空度 若选配我司高真空系统，可达1.33*10-4Pa（空炉冷态）
炉管及尺寸 刚玉管，60*1000mm 刚玉管，80*1000mm 刚玉管，80*1200mm
密度大，热震性好，耐酸碱，耐冲刷
隔热管堵 2只，氧化铝材质
标准法兰 Φ60，一套 Φ80，一套
硅胶密封圈 内径58*5.3mm，4只 外径80*5.7mm，4只
真空压力表 -0.1至0.15MPa
安 全防护 **温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护
升级服务 控温仪表升级为欧陆仪表，控温精度可提升至±0.1℃
随机资料 使用说明书1份、保修证书1份
免费服务 免费送货(不含卸货)；免费终身技术支持
质 保 期 12个月，易损件除外（如炉管、密封圈等）

1700℃箱式高温炉
窗体底端
设备名称 箱式高温烧结炉
型 号 BF1700-322 BF1700-433 BF1700-544 BF1700-666
基本参数 电源电压 AC 220V,50/60Hz AC 380V,50/60Hz AC 380V,50/60Hz AC 380V,50/60Hz
外形尺寸（宽*深*高）
设备重量 300Kg 620Kg 960Kg 000Kg
加热系统 加热功率 5Kw 12Kw 20Kw 00Kw
炉膛尺寸（宽*深*高）
恒温尺寸（宽*深*高）
温度条件 极限温度1700℃，使用温度≤1600℃
升温速率 ≤20℃/min（上限）
1000℃以内：≤10℃/min，1000℃以上：≤5℃/min（建议）
降温速率 1000℃以上≤10℃/min
测温传感器 B型热电偶0.5mm国标，背面正中间
加热元件 1800型硅钼棒
炉 膛 1800型氧化铝多晶纤维板，收缩率小，导热系数低，保温效果好，耐用节能
控温仪表 AI-518P AI-518P AI-518P 7英寸触摸屏
模糊PID控制和自整定调节功能
30段可编程控制，控温精度±1℃
安 全防护 **温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护
升级服务 控温仪表升级为欧陆仪表，控温精度可提升至±0.1℃
随机资料 使用说明书1份、保修证书1份
免费服务 免费送货(不含卸货)；免费终身技术支持
质 保 期 12个月，易损件除外（如加热元件、密封圈等）

PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
系统选型
项 目 推荐选型
管式加热炉体
石英反应腔室 根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等规格可选。
真空系统 根据需求选择不同真空效果的真空系统。有DZK10-1（极限真空0.1Pa），GZK10-3（极限真空0.001Pa），以及进口高真空机组（极限真空0.0001Pa）供选择。
质子流量供气系统 根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路GQ-2Z，三路GQ-2Z，四路GQ-2Z，五路GQ-2Z或更多路供选择。
射频等离子源 根据需求选择强度不同的射频电源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射频电源供选择。
常见PECVD系统组合 1. 1200度60滑轨式微型管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，300W射频电源
MXG1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300
2. 1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
3. 1200度60双温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
4. 1200度60三温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500
5. 1200度60微型预热炉，1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源
MXG1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500

烘箱（无尘烘箱）
无尘烘箱也称无尘工业烘箱、洁净工业烘箱。是一种提供高温净化环境的特殊洁净无尘烘干设备。箱内空气封闭自循环，经耐高温高效空气过滤器（100级）反复过滤，使烘箱工作室内处于无尘状态。无尘烘箱工作室为不锈钢结构。工作室内温度由温控仪自动控制，并有自动恒温及时间控制装置，并附设有**温自动停电及报警电路，控制可靠，使用安全。
特点
1. 全周氩焊，耐高温硅胶破紧，SUS304#不锈钢电热生产器，防机台本身所产生微尘；
2. 耐高温，在工作场地洁净等级达到class1000#前提下，实验室内能有效过滤微尘而达到洁净等级class100#；
3. 叠成组合式，减少场地占用面积，效率高。
用途
无尘工业烤箱适用于电子液晶显示、LCD、CMOS、IS、医药、实验室等生产及科研部门。
无尘工业烤箱也可用于非挥发性及非易燃易爆物品的干燥、热处理、老化等其他高温试验。