重庆纯水处理设备 纯化水设备

反渗透设备的组成是围绕反渗膜而组织成的一套水处理系统，一套完整的反渗透系统分别由预处理部分、反渗透主机（膜过滤部分）、后处理部分和系统清洗部分共同组成
制备精细化工、化学试剂等纯水设备的工艺流程
采用离子交换方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级反渗透→中间水箱→中间水泵→混床→纯水箱→纯水输送泵→用水点

精细化工、化学试剂纯水设备应用范围
·化工材料的生产和加工过程所用的溶剂及清洗过程
·超纯材料和超纯化学试剂
·实验室
·电子半导体、集成电路板上用到的化工材料
·高纯墨水、传真打印机中的喷墨、纳米墨水

采用反渗透方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→反渗透 →纯水箱→纯水泵→用水点

后处理部分主要是对反渗透主机制取的纯水作进一步的处理，如果后续工艺接离子交换或电去离子（EDI）设备，则可以制取工业用超纯水，如果是用在民用直饮水工艺上，则常常接后置杀菌装置，例如可以接紫外线杀菌灯或者臭氧发生器，从而使出来的水可以直接饮用。

半导体清洗超纯水设备水质标准：
半导体芯片清洗超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了严格的要求。