PlasmaMS 300仪器组成与工作原理
ICP-MS全称电感耦合等离子体质谱(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)主要包括以下功能模块:进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、杆质量分析系统、离子检测及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
图2.1 PlasmaMS 300型结构示意图
其工作原理是:待测样品通过进样系统进入离子源部分,在被 ICP射频电源离子化后,在接口及离子传输系统中通过聚焦、消除干扰后进入四极杆质量分析器,在其中离子将按照质荷比(m/z)大小被分开,经过聚焦后,达到检测器。检测器将不同质荷比的离子流通过接收、测量及数据处理转换成电信号经放大、处理后得到分析结果。
2.2 主机部件
仪器主机的主要部件有:进样系统、ICP离子源、接口单元、离子传输系统、杆质量分析系统、离子检测及和数据采集系统、真空系统、整机控制系统与软件系统。
进样系统包含蠕动泵、进样管排样、雾化器、雾室、玻璃弯管、炬管;
ICP离子源包括包含功放箱、匹配箱;
接口单元包括接口、水腔、提取透镜;
离子传输系统包括π透镜、碰撞反应池、透镜组;
杆质量分析系统包括杆、馈入件;
离子检测及数据采集系统主要包括电子倍增器、电子倍增器支架;
真空系统包括机械泵、2个分子泵、真空腔体、潘宁规;
整机控制系统包含各种控制电路模块。
2.3 装置
智能温控冷却循环水箱是重要的装置,它冷却接口、线圈、离子源和分子泵。
稳压电源是能为负载提供稳定交流电的电子装置。当电网电压或负载出现瞬间波动时,稳压电源会以10ms~30ms的响应速度对电压幅值进行补偿,使其稳定在±2%以内。
PlasmaMS 300在金属工业领域的应用
痕量元素含量的变化对材料性能和生产控制有巨大影响。
PlasmaMS 300 PLASMAMS 300能在主要元素存在的条件下测定痕量元素,使用跳峰扫模式可以避 免主量元素、其氧化物、其双电荷、其氢化物等的干扰,选择同位素时应注意避免基体离 子干扰。
应用领域:
在研发和化学应用领域有较广的范围 高纯陶瓷和化学品
金属和玻璃 产品纯度验证
PlasmaMS 300型质谱仪将ICP的高温电离特性与四极杆质谱计的灵敏快速扫描的优点相结合而形成一种新型的有力的元素分析、同位素分析和形态分析技术。该技术具有检出限低、动态线性范围宽、干扰少、分析精度高、速度快、可进行多元素同时测定等优异的分析性能,已从初在地质科学研究的应用迅速发展到环境保护、半导体、生物、、冶金、石油、核材料分析等领域。
公司主要技术和产品的创新历程
公司是我国金属材料检测领域的先行者。基于原钢研院自 1954 年以来在金 属材料和冶金工艺分析测试领域的技术积淀,公司于 2001 年成立,已逐步搭建 起强大的技术创新体系。公司自成立以来一直面向国家重大工程及重点项目需 求,不断开发新技术、新标准、新产品,屡次解决国家及行业在金属检测技术及 仪器装备领域的瓶颈,不断实现重大技术突破,解决“卡脖子”问题,引领国内金 属检测和检测分析仪器的技术进步与创新。 凭借完善的创新体系和持续创新能力,公司目前拥有了在金属材料检测领域 的检测、表征、评价和认证服务能力,同时开发出一系列具有完全自主知识 产权和首创性的仪器产品。
公司检测分析仪器可分为原子光谱、X 射线荧光光谱、气体元素分析、质谱、 力学、无损探伤及环境监测类,产品类型丰富,目前共有 40 多种产品型号, 覆盖金属材料检测、环境监测、食品药品检测等应用领域。